研磨拋光-鑽石液
油性配方S1313
S1313是最廣爲使用的低黏度鑽石研磨液，能在研磨盤上形成一層薄膜，除了提供潤滑作用及協助鑽石微粉平均分布在盤面上外，也可防止元件幹磨而損壞。
本研磨液特别适用于對表面光潔度要求高的物料及元件，應用範圍包括光電産品、陶瓷、金屬物料及半導體基盤（substrates）等。
水性配方S4889
S4889是另一種非常通用的鑽石研磨液，應用于電子部件、光電産品、半導體基盤、陶瓷集成線路闆及讀寫磁頭。本研主要原因液特别易于清洗，有效縮短生産所需的清洗時間。
其他配方研磨液
按不同工藝要求，Engis可爲不同用戶配方各種粒度、濃度、黏度、酸堿度等的HYPREZ研磨液，詳情請與金太客銷售部聯絡。
研磨液鑽石微粉濃度
提供三種級别微粉濃度：低（MED）、标準（STD）、高（STR），可供選擇。
包裝：HYPREZ鑽石研磨液标準包裝爲400克玻璃瓶裝及1加侖塑膠桶裝，也可按客戶要求提供其他包裝。
按不同工藝要求，Engis可爲不同用戶配方各種粒度、濃度、黏度、酸堿度等的HYPREZ研磨液，詳情請與金太客銷售部聯絡。
研磨液鑽石微粉濃度
提供三種級别微粉濃度：低（MED）、标準（STD）、高（STR），可供選擇。
包裝：HYPREZ鑽石研磨液标準包裝爲400克玻璃瓶裝及1加侖塑膠桶裝，也可按客戶要求提供其他包裝。
